Hoppa till innehållet
TimeLinq

Asset Comparer

Jämför aktier, ETF, index, råvaror, kryptovaluta och obligationer under samma period. Indikatorer som inte är meningsfulla för en typ av tillgång rapporteras.

  • Semiconductor Manufacturing International Corporation

Jämförande prestanda (bas 100)

Chaque actif vaut 100 au 20 oktober 2025 ; une valeur de 120 signifie +20 % depuis cette date (dernière date commune : 16 oktober 2026).

Indikatorer

"Inte tillämpligt" anger en indikator som inte har någon betydelse för denna typ av tillgång: den bör inte jämföras.

IndikatorSemiconductor Manufacturing International CorporationAction
Prestanda och risk
Prestanda under periodenPrisförändring mellan de första och sista gemensamma datumen.−16,3%
Årlig prestandaGenomsnittlig avkastning per år som skulle ge samma totala prestanda.−16,5%
Årlig volatilitetVanlig storlek av variationer: ju högre det är, desto mer fluktuerar priset.53,3%
Maximal droppeStarkare droppe från topp till botten under perioden.−40,7%
Sharpe ratioRendement obtenu au-delà du taux sans risque (5,10%), par unité de volatilité. Plus il est élevé, mieux le risque a été rémunéré sur la période.−0,18
95% daglig förlustFörlust av en session som överskreds i endast 5 % av fallen (Historic VaR).−4,9%
Grundläggande
KapitaliseringVärde av alla aktier (eller tokens i cirkulation för en krypto).879,01 md CNY
PER (senast 12 månader)Pris dividerat med vinst per aktie: antal år av betalda vinster.112,8
Pris / omsättningKapitalisering dividerat med årlig omsättning.84,7
Net marginalAndel omsättning behålls för vinst.10,0%
Lönsamhet för eget kapitalVinst relaterad till eget kapital (ROE).4,2%
Tillväxt i omsättningUnder ett år publicerades förra kvartalet jämfört med samma kvartal föregående år.+36,1%
Return on dividendÅrlig utdelning rapporterades under kursen.Ingen
Skuld/EquityFinansiell skuld relaterad till eget kapital.37%

Utbildningsinformation. De är varken investeringsråd eller personlig rekommendation. Tidigare prestanda påverkar inte framtida prestanda.

Exempel: